特許

J-GLOBAL ID：200903028514052740

プラズマ処理装置

発明者： 小町 恭一 ,  飯尾 浩一 ,  吉識 隆裕
出願人/特許権者： 住友金属工業株式会社
代理人 (1件)： 河野 登夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-174478
公開番号（公開出願番号）：特開2000-012291
出願日： 1998年06月22日
公開日（公表日）： 2000年01月14日
要約：

【要約】【課題】 プラズマ処理中の反応容器の内部に発生する高温の作用により、マイクロ波の導入窓を覆う封止板の封止性能が低下すること、及び封止板の物性が変化することを防止し、長期に亘って安定したプラズマ処理を行わせ得るようにする。【解決手段】 反応容器1の一側に開設されたマイクロ波の導入窓2を、これに架設された支持枠30に支持された複数枚の封止板3,3...により封止した構成において、支持枠30に媒体流路7を設け、この媒体流路7に冷却水を供給して、支持枠30の開口部に支持された封止板3,3...を、気密封止用のOリング6,6...と共に、媒体流路7内を流れる冷却水との熱交換により冷却する。

請求項（抜粋）：

プラズマ生成のための反応容器の一側に設けたマイクロ波の導入窓に複数の開口を有する支持枠を架設し、前記複数の開口を、夫々の周縁部に封止部材を介して支持された各別の封止板により封止してあるプラズマ処理装置において、前記支持枠に前記複数の開口の周縁部を含んで形成された媒体流路と、該媒体流路に温度調節用媒体を供給する媒体供給手段とを具備することを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (5件)：

H05H 1/46 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (5件)：

H05H 1/46 B ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B

Fターム (22件)：

4K030FA02 ,  4K030JA10 ,  4K030KA30 ,  4K030KA41 ,  4K030KA45 ,  4K057DA16 ,  4K057DD01 ,  4K057DM29 ,  4K057DM39 ,  5F004BA20 ,  5F004BB14 ,  5F004BB29 ,  5F004BC01 ,  5F004BD01 ,  5F004BD04 ,  5F045AA09 ,  5F045DP02 ,  5F045EB03 ,  5F045EB05 ,  5F045EH03 ,  5F045EJ04 ,  5F045EJ09

引用特許：

審査官引用 (6件)

• マイクロ波プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-071021   出願人：住友金属工業株式会社
• 特開平1-140598
  
• プラズマ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-053865   出願人：住友金属工業株式会社
• 特開昭63-070526
  
• ECRドライエツチング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-255178   出願人：松下電器産業株式会社
• 特開昭64-067908