特許
J-GLOBAL ID：200903028597401083
リソグラフィ装置、モデルパラメータを決定する方法、デバイス製造方法、およびそれによって製造したデバイス
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 森 徹
, 吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-355504
公開番号（公開出願番号）：特開2005-175487
出願日： 2004年12月08日
公開日（公表日）： 2005年06月30日
要約：
【課題】本発明はオブジェクトの位置決め、およびリソグラフィ投影装置および方法を提供する。【解決手段】本発明の1つの実施形態による方法は、オブジェクトの位置に関する情報を提供するモデルの少なくとも1つのパラメータを決定することに関する。オブジェクトは、所望の位置が分かっている複数のアラインメントマークを有する。方法は、各アラインメントマークの複数の位置パラメータを決定することを含む。重み係数で重みづけし、測定した複数の位置パラメータに基づいて、オブジェクトのモデルの少なくとも1つのパラメータを決定する。各重み係数の数値を、モデルの少なくとも1つのパラメータとともに決定する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
モデルの少なくとも1つのパラメータを決定する方法であって、モデルがオブジェクトの位置に関する情報を提供し、オブジェクトには、所望の位置が分かっている複数のアラインメントマークを設け、
複数のアラインメントマークのそれぞれについて複数の位置パラメータを測定するステップと、
測定した複数の位置パラメータに基づいて、モデルの少なくとも1つのパラメータを決定するステップとを含み、
複数のアラインメントマークのそれぞれについて複数の位置パラメータを、重み係数で重みづけし、
モデルの少なくとも1つのパラメータを決定する前記ステップが、重み係数の少なくとも1つの数値をモデルの少なくとも1つのパラメータとともに決定することを含むものである方法。
IPC (3件)：
H01L21/027
, G03F9/00
, H01L21/68
H01L21/30 525W
, G03F9/00 A
, H01L21/68 F
