特許
J-GLOBAL ID:200903028654195460
電子部品の製造装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
滝本 智之 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-008273
公開番号(公開出願番号):特開平10-204615
出願日: 1997年01月21日
公開日(公表日): 1998年08月04日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、高温に加熱しながらスパッタリングによって成膜が行え、にじみのないパターン形成が行える電子部品の製造装置を提供することを目的とする。【解決手段】 離間手段22によってマスク13と電子部品17を適切な離間寸法で離間させ、マスク13の位置決めをピン19及び貫通孔14,15で行うことにより、高温によるマスクの変形を制御している。
請求項(抜粋):
加熱室と、この加熱室内に配置される電子部品に対向してセットされるマスクと、このマスクを前記電子部品から所定寸法離間させる離間手段と、前記マスクの開口部を介して前記電子部品にスパッタリングを行うスパッタリング手段とを備え、前記離間手段によりマスクと前記電子部品とを最終スパッタ膜よりも小さい寸法を離間させた電子部品の製造装置。
IPC (3件):
C23C 14/04
, H01L 21/203
, H03H 3/02
FI (3件):
C23C 14/04 A
, H01L 21/203 S
, H03H 3/02 A
引用特許:
審査官引用 (6件)
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透明電極膜の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-063036
出願人:大日本印刷株式会社
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厚膜の成膜方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-264277
出願人:アイシン精機株式会社
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特開昭56-074254
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特開昭63-118062
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成膜マスク装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-340328
出願人:株式会社大真空
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特開昭51-061782
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