セラミックヒータ及びそれを用いた成膜処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：大島陽一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-116329
公開番号（公開出願番号）：特開2001-298020
出願日： 2000年04月18日
公開日（公表日）： 2001年10月26日
要約：

【要約】【課題】セラミックヒータの表面を保護するのに適するセラミックヒータ用カバーを実現する。【解決手段】 CVD装置に用いられるセラミックヒータ1の表面1aの全面を覆うようにカバープレート2を設け、カバープレートの表面を凹設してなる載置面2aにシリコンウェハ3を載置する。【効果】セラミックヒータの表面をセラミックス製プレートからなるセラミックヒータ用カバーにより保護することができ、セラミックヒータの表面が直接ガスなどにさらされることがなく、例えばクリーニングガスによる腐食が生じてもその腐食はセラミックヒータ用カバーにのみ生じることから、メンテナンス時の交換はカバーのみで良くなり、メンテナンス費用の低コスト化を大きく向上し得る。

請求項（抜粋）：

セラミックヒータの加熱処理対象物を載置する側の表面に、該表面の略全体を覆うように形成されたセラミックス製プレートを前記表面に対して着脱可能に設けたことを特徴とするセラミックヒータ。

IPC (5件)：

H01L 21/31 , H05B 3/10 , H05B 3/18 , H05B 3/20 328 , C23C 16/46

FI (5件)：

H01L 21/31 C , H05B 3/10 C , H05B 3/18 , H05B 3/20 328 , C23C 16/46

Fターム (63件)：

3K034AA12 , 3K034BB06 , 3K034BB14 , 3K034BC01 , 3K034BC17 , 3K034BC29 , 3K034HA01 , 3K034HA10 , 3K034JA02 , 3K092PP09 , 3K092PP20 , 3K092QA05 , 3K092QB26 , 3K092QC28 , 3K092RF03 , 3K092RF11 , 3K092RF19 , 3K092RF27 , 3K092SS24 , 3K092SS33 , 3K092SS34 , 3K092TT06 , 3K092VV03 , 3K092VV09 , 3K092VV22 , 4K030AA06 , 4K030AA13 , 4K030AA16 , 4K030AA18 , 4K030BA40 , 4K030CA04 , 4K030CA12 , 4K030DA06 , 4K030FA03 , 4K030JA01 , 4K030KA14 , 4K030KA23 , 4K030KA46 , 5F045AA03 , 5F045AA08 , 5F045AB33 , 5F045AC01 , 5F045AC12 , 5F045AD07 , 5F045AD08 , 5F045AD09 , 5F045AD10 , 5F045AE19 , 5F045AE21 , 5F045AE23 , 5F045AF03 , 5F045BB10 , 5F045BB14 , 5F045EB02 , 5F045EB03 , 5F045EB06 , 5F045EF05 , 5F045EH04 , 5F045EH05 , 5F045EH08 , 5F045EK09 , 5F045EM02 , 5F045EM09

引用特許：

審査官引用 (4件)

加熱装置およびこれに用いるガイドリング
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-136452 出願人：新光電気工業株式会社, タクトフィールド株式会社
半導体ウエハー加熱装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-321996 出願人：日本碍子株式会社
化学的攻撃ガス環境に露出されるプラズマ処理室の加熱金属表面用セラミック保護及びその加熱金属表面の保護方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-056134 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド

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