特許
J-GLOBAL ID:200903028905838544

面発光レーザ光源の製造方法及び面発光レーザ光源

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 長谷川 芳樹 ,  寺崎 史朗 ,  石田 悟
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-245741
公開番号(公開出願番号):特開2006-066538
出願日: 2004年08月25日
公開日(公表日): 2006年03月09日
要約:
【課題】 所望の出射条件でレーザ光を得ることができる面発光レーザ光源の製造方法及び面発光レーザ光源を提供する。【解決手段】 面発光レーザ光源2は、円柱状のメサ型形状を有する面発光レーザ素子3とマイクロレンズ4とが一体に、基板10上に形成されて構成されている。面発光レーザ素子3は、垂直共振器型面発光レーザ(VCSEL)であり、下部ミラー5と上部ミラー8との間で共振器が構成される。また、マイクロレンズ4は、第1レンズ部4aと第2レンズ部4bとで構成され、出射面3a側の中心部から外側のレンズ面4cに向かって所定の分布で屈折率が変化する分布屈折率構造に形成されている。【選択図】 図3
請求項(抜粋):
基板上に形成された垂直共振器型の面発光レーザ素子の出射面上に第1の誘電体材料を積層する第1の誘電体積層工程と、 前記出射面上に積層された前記第1の誘電体材料を元レンズに形成する第1のレンズ形成工程と、 前記元レンズ上に、第2の誘電体材料を積層する第2の誘電体積層工程と、 前記面発光レーザ素子よりレーザ光を出射し、その出射パターンに基づいて、前記元レンズ上に積層された前記第2の誘電体材料の外面形状を調整して、前記面発光レーザ素子に対応するマイクロレンズを形成する第2のレンズ形成工程と、 を備えることを特徴とする面発光レーザ光源の製造方法。
IPC (2件):
H01S 5/183 ,  H01S 5/026
FI (2件):
H01S5/183 ,  H01S5/026
Fターム (14件):
5F173AC32 ,  5F173AD02 ,  5F173AD20 ,  5F173AL10 ,  5F173AL14 ,  5F173AL19 ,  5F173AL21 ,  5F173AP33 ,  5F173AP35 ,  5F173AP42 ,  5F173AR33 ,  5F173AR55 ,  5F173AR93 ,  5F173AR96
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (4件)
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