ウエット洗浄装置

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出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：福森久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-335491
公開番号（公開出願番号）：特開2000-228387
出願日： 1999年11月26日
公開日（公表日）： 2000年08月15日
要約：

【要約】【課題】半導体の洗浄プロセスにおいてリンス水として使用される超純水中に極微量含まれる重金属、コロイド状物質などの不純物を除去し、デバイスの特性を悪化させる微粒子、重金属などの不純物の基板表面への付着を抑制することが可能なウエット洗浄装置を提供すること。【解決手段】装置内部のユースポイントへ配管を介して超純水を供給することにより超純水をリンス液としてリンスを行うウエット洗浄装置において、装置内部に位置する配管途上に、アニオン交換基、カチオン交換基又はキレート形成基を有する高分子鎖が膜内部に保持されている多孔膜を充填したモジュール20が設けられていることを特徴とする。リンス液は水素を含有する水素含有超純水が好ましい。

請求項（抜粋）：

装置内部のユースポイントへ配管を介して超純水を供給することにより超純水をリンス液としてリンスを行うウエット洗浄装置において、装置内部に位置する配管途上に、アニオン交換基、カチオン交換基又はキレート形成基を有する高分子鎖が膜内部に保持されている多孔膜を充填したモジュールが設けられていることを特徴とするウエット洗浄装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 648 , B01D 71/82 , B08B 3/02

FI (3件)：

H01L 21/304 648 F , B01D 71/82 , B08B 3/02 A

引用特許：

審査官引用 (6件)

ユースポイントモジュールシステム
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-226312 出願人：旭化成工業株式会社
基板洗浄方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-335705 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開平3-188988

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