基板洗浄方法及びその装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：杉谷勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-335705
公開番号（公開出願番号）：特開平10-172941
出願日： 1996年12月16日
公開日（公表日）： 1998年06月26日
要約：

【要約】【課題】水溶液中に溶かし込んだ還元ガスで表面電位を制御することにより、基板から除去した粒子が再付着することを防止できる。【解決手段】純水を冷却装置20で冷却して溶解装置12に供給し、圧力調整器Pにより一定圧力にした水素を溶解装置12に供給する。純水には浸透膜14を通して水素が溶解され、この水溶液が洗浄液としてノズル7から基板Wに供給される。基板Wおよび付着粒子は水素により表面電位が同極性にされ、付着粒子が電気的に反発して基板Wから除去されるとともにその再付着が防止される。

請求項（抜粋）：

基板に洗浄液を供給して洗浄を行う基板洗浄方法において、純水に還元ガスを溶解させた水溶液を前記洗浄液としたことを特徴とする基板洗浄方法。

IPC (6件)：

H01L 21/304 341 , H01L 21/304 , B01F 1/00 , B08B 3/10 , G11B 5/84 , G11B 7/26

FI (6件)：

H01L 21/304 341 L , H01L 21/304 341 M , B01F 1/00 A , B08B 3/10 Z , G11B 5/84 Z , G11B 7/26

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開平4-058528
半導体基板のウエット処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-056109 出願人：日本電気株式会社
特開平4-051521

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