特許
J-GLOBAL ID：200903028909840853

ポジ型レジスト組成物

発明者：
中尾 元

中尾 元 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-321263
公開番号（公開出願番号）：特開2004-157244
出願日： 2002年11月05日
公開日（公表日）： 2004年06月03日
要約：
【課題】経時での感度変化が小さく、現像液展開性に優れたポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)単環又は多環の脂環式炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び(C)溶媒として、アルコキシ基とアルコール性ヒドロキシル基とが少なくとも3つの炭素原子を挟んで連結されるアルコキシアルコールを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、 (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び (C)溶媒として、アルコキシ基とアルコール性ヒドロキシル基とが少なくとも3つの炭素を挟んで連結されるアルコキシアルコール を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027
FI (3件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R
Fターム (15件)：
2H025AA01 ,  2H025AA04 ,  2H025AA11 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC03 ,  2H025FA17
引用特許：
審査官引用 (4件)
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