特許
J-GLOBAL ID：200903029020125792
生検後キャビティ処理移植片および方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
鷲頭 光宏
, 緒方 和文
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-535512
公開番号（公開出願番号）：特表2007-508109
出願日： 2004年09月24日
公開日（公表日）： 2007年04月05日
要約：
生検後キャビティ移植片は、放射線不透過性要素と、コア部分と、シェル部分と、を含む。コア部分は、放射線不透過性要素に連結され、第1の制御された孔アーキテクチャを画成する第1の多孔性マトリクスを含む。シェル部分は、コア部分に連結され、第1の制御された孔アーキテクチャとは異なる第2の制御された孔アーキテクチャを画成する第2の多孔性マトリクスを含む。【選択図】 図30
請求項（抜粋）：
生検後キャビティ処理移植片であって、
放射線不透過性要素と、
前記放射線不透過性要素に連結されたコア部分であって、第1の制御された孔アーキテクチャを画成する第1の多孔性マトリクスを含むコア部分と、
前記コア部分に連結されたシェル部分であって、前記第1の制御された孔アーキテクチャとは異なる第2の制御された孔アーキテクチャを画成する第2の多孔性マトリクスを含むシェル部分と、
を具備する生検後キャビティ処理移植片。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (15件)：
4C097AA19
, 4C097BB01
, 4C097CC01
, 4C097CC02
, 4C097DD02
, 4C097DD05
, 4C097DD15
, 4C097EE01
, 4C097EE08
, 4C097EE16
, 4C097EE19
, 4C097EE20
, 4C097FF09
, 4C097MM05
, 4C097MM09
