特許
J-GLOBAL ID：200903029035806141
高周波プラズマによるチャンバの内部洗浄方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-301364
公開番号（公開出願番号）：特開平11-214372
出願日： 1998年10月22日
公開日（公表日）： 1999年08月06日
要約：
【要約】【課題】 高周波プラズマによるチャンバの内部洗浄方法を提供することを目的とする。【解決手段】 不純物が内部表面に塗布されているチャンバの内部を安定化させる(第210段階)。次いで、チャンバ内部の圧力を連続的に変化させたり、多段階に変化させながらRFプラズマを使用してチャンバ内部を洗浄する(第220段階)。これにより、シャワーヘッドのガスホールを始めチャンバ内部の全ての部位が均一に洗浄されてパーチクルの生成を防止しうる。
請求項（抜粋）：
(a) 洗浄により除去されるべき物質が内部表面に塗布されているチャンバの内部を安定化させる段階と、(b) 前記チャンバ内部の圧力を変化させ続けながら RFプラズマを使用して前記チャンバの内部を洗浄する段階とを含むことを特徴とする RFプラズマを使用するチャンバの内部洗浄方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/302 N
, H05H 1/46 A
