加工装置及び方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：藤元亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-173317
公開番号（公開出願番号）：特開2005-353858
出願日： 2004年06月11日
公開日（公表日）： 2005年12月22日
要約：

【課題】パターンの転写精度を確保する加工装置及び方法を提供する。【解決手段】凹凸のパターンを形成したモールドを基板上のレジストに押し付けると共に前記モールドを介して前記レジストを感光させる光を前記レジストに照射することによって前記レジストにパターンを転写する加工装置であって、前記モールドを保持すると共に前記モールドを前記レジストに押し付けるモールドチャックと、前記モールドチャックによる押し付け力の印加時に、前記モールドの変形を防止する変形防止手段とを有することを特徴とする加工装置を提供する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

凹凸のパターンを形成したモールドを基板上のレジストに押し付けると共に前記モールドを介して前記レジストを感光させる光を前記レジストに照射することによって前記レジストにパターンを転写する加工装置であって、前記モールドを保持すると共に前記モールドを前記レジストに押し付けるモールドチャックと、前記モールドチャックによる押し付け力の印加時に、前記モールドの変形を防止する変形防止手段とを有することを特徴とする加工装置。

IPC (2件)：

H01L21/027 , G03F7/20

FI (2件)：

H01L21/30 502D , G03F7/20 521

Fターム (11件)：

5F046AA28 , 5F046BA01 , 5F046CC02 , 5F046CC05 , 5F046CC09 , 5F046CC11 , 5F046DA21 , 5F046DA22 , 5F046DA27 , 5F046DB01 , 5F046DC02

引用特許：

審査官引用 (4件)

転写リソグラフィのための高分解能オーバレイ・アライメント方法およびシステム
公報種別：公表公報出願番号：特願2002-514472 出願人：ボード・オブ・リージエンツ,ザ・ユニバーシテイ・オブ・テキサス・システム
インプリント・リソグラフィのための高精度方向付けアライメントデバイスおよびギャップ制御デバイス
公報種別：公表公報出願番号：特願2001-535125 出願人：ボード・オブ・リージエンツ,ザ・ユニバーシテイ・オブ・テキサス・システム
特開昭53-075868

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