特許
J-GLOBAL ID：200903070858815596

転写リソグラフィのための高分解能オーバレイ・アライメント方法およびシステム

発明者：
チョイ,ビュン・ジン

チョイ,ビュン・ジン について

, 
コルバーン,マシュー

コルバーン,マシュー について

, 
スリーニバサン,エス・ブイ

スリーニバサン,エス・ブイ について

, 
ベイリー,トッド

ベイリー,トッド について


出願人/特許権者：
ボード・オブ・リージエンツ,ザ・ユニバーシテイ・オブ・テキサス・システム

ボード・オブ・リージエンツ,ザ・ユニバーシテイ・オブ・テキサス・システム について


代理人 (1件)： 山川 政樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-514472
公開番号（公開出願番号）：特表2004-505439
出願日： 2001年07月16日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：
転写リソグラフィ・プロセスの間のアラインメントを決定し、訂正する方法を提供する。転写リソグラフィ・プロセスの間に、テンプレートと基板双方に配置されたアラインメント・マークを使用することによって、テンプレートが基板に対してアラインメントされる。アラインメントは層が処理される前に決定され、訂正される。
請求項（抜粋）：
パターン化された、硬化光に対して実質的に透明なテンプレートを使用して、基板上にパターンを形成する方法であって、 硬化光が存在すると硬化する光硬化液を基板の一部に塗布するステップと、 パターン化されたテンプレートがテンプレート・アライメント・マークを備えており、かつ、基板が基板アライメント・マークを備えているいときに、そのパターン化されたテンプレートが、基板上に配置された液体の少なくとも一部に接触するように、パターン化されたテンプレートおよび基板を位置決めするステップと、 基板アライメント・マークに対するテンプレート・アライメント・マークのアライメントを正確に測定するステップと、 テンプレート・アライメント・マークと基板アライメント・マークが実質的に整列するように、基板に対するパターン化されたテンプレートのオーバレイ配置を調整するステップと、 塗布された液体が、パターン化されたテンプレートと基板の間の実質的に一様なギャップを実質的に充填するように、パターン化されたテンプレートと基板の間の隙間を調整するステップと、 テンプレートを通して液体に硬化光を照射するステップであって、硬化光の照射によって液体が実質的に硬化し、硬化した液体中に、パターン化されたテンプレートのパターンが形成されるステップと、 パターン化されたテンプレートと硬化した液体を分離するステップとを含む方法。
IPC (3件)：
H01L21/027 ,  G02B5/18 ,  G03F7/20
FI (3件)：
H01L21/30 502D ,  G02B5/18 ,  G03F7/20 521
Fターム (5件)：
2H049AA02 ,  2H049AA03 ,  2H049AA45 ,  2H049AA55 ,  5F046AA28
引用特許：
出願人引用 (8件)
全件表示
審査官引用 (8件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM