特許
J-GLOBAL ID：200903029070340562

デバイスの製造方法、デバイス及び電子機器

発明者：
古沢 昌宏

古沢 昌宏 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (1件)： 稲葉 良幸 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-119969
公開番号（公開出願番号）：特開2003-315829
出願日： 2002年04月22日
公開日（公表日）： 2003年11月06日
要約：
【要約】【課題】 製造コストを低減することを可能とするデバイスの製造方法を提供すること。【解決手段】 液晶表示装置の画素部100は、薄膜トランジスタT、ソース線26、カラーフィルタ23、画素電極24などを含む。ゲート電極13、ゲート絶縁膜16及びチャネル領域18を形成した後のガラス基板10上に、ソース/ドレイン領域22、カラーフィルタ23及び画素電極24、ソース線26の各々を形成すべき領域の外周を壁で囲むポリイミド膜20を形成する。ポリイミド膜20の壁によって囲まれた領域に液体材料を塗布し、熱処理を加えて成膜し、カラーフィルタ23や画素電極24などの要素を形成する。ポリイミド膜20に遮光性を持たせ、画素領域の周りを遮光するブラックマトリクスとして機能させる。
請求項（抜粋）：
少なくともデバイスの一部の要素を液体材料を使用して成膜するデバイスの製造方法であって、基板上にデバイスを構成する複数の要素の領域を割り当てる工程と、前記複数の要素の領域のうち、少なくとも液体材料を使用する要素の領域の外周を壁で囲むとともに、それ以外の領域を覆う囲繞膜を形成する囲繞膜形成工程と、前記壁によって囲まれた領域に前記液体材料を塗布し、熱処理を加えて成膜する成膜工程と、を含み、前記囲繞膜は、遮光性を有するように形成される、デバイスの製造方法。
IPC (3件)：
G02F 1/1368 ,  G02F 1/1335 500 ,  G02F 1/1335 505
FI (3件)：
G02F 1/1368 ,  G02F 1/1335 500 ,  G02F 1/1335 505
Fターム (24件)：
2H091FA02Y ,  2H091FA34Y ,  2H091FB03 ,  2H091FC12 ,  2H091GA02 ,  2H091GA13 ,  2H091LA12 ,  2H091LA15 ,  2H092JA26 ,  2H092JA34 ,  2H092JA37 ,  2H092JA41 ,  2H092JB22 ,  2H092JB31 ,  2H092JB51 ,  2H092JB56 ,  2H092JB61 ,  2H092KB04 ,  2H092MA05 ,  2H092MA07 ,  2H092MA13 ,  2H092MA18 ,  2H092NA27 ,  2H092NA29
引用特許：
審査官引用 (9件)
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