特許
J-GLOBAL ID:200903029083849111
低揮発性スポット液
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-198361
公開番号(公開出願番号):特開2005-037172
出願日: 2003年07月17日
公開日(公表日): 2005年02月10日
要約:
【課題】アレイ作成開始時と終了時で均一なスポットを行いアレイの品質を安定させることができるスポット液を提供すること。【解決手段】60°Cでの蒸気圧が5mmHg以下であり、かつ固定用試料を0.001%(W/V)以上溶解できる溶媒を50質量%以上100質量%以下含有する、試料を担体上に固定するためのスポット液。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
60°Cでの蒸気圧が5mmHg以下であり、かつ固定用試料を0.001%(W/V)以上溶解できる溶媒を50質量%以上100質量%以下含有する、試料を担体上に固定するためのスポット液。
IPC (2件):
FI (2件):
G01N33/53 M
, G01N37/00 102
引用特許:
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