純水の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：内山充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-081683
公開番号（公開出願番号）：特開2000-271569
出願日： 1999年03月25日
公開日（公表日）： 2000年10月03日
要約：

【要約】【課題】ホウ素、シリカ及びアルカリ成分などの含有量が少なく、電気伝導率の小さい高水質の純水を効率よく製造する方法を提供する。【解決手段】原水を酸性条件下において、脱気処理及び第1の逆浸透膜処理を行ったのち、そのpHを9.2以上に調整して、さらに第2の逆浸透膜処理を行う純水の製造方法において、第1の逆浸透膜処理で得られた処理水のpH調整前又はpH調整後に、該処理水を脱酸素処理して溶存酸素量を200ppb以下にする純水の製造方法である。

請求項（抜粋）：

原水を酸性条件下において、脱気処理及び第1の逆浸透膜処理を行ったのち、そのpHを9.2以上に調整して、さらに第2の逆浸透膜処理を行う純水の製造方法において、第1の逆浸透膜処理で得られた処理水のpH調整前又はpH調整後に、該処理水を脱酸素処理して溶存酸素量を200ppb以下にすることを特徴とする純水の製造方法。

IPC (3件)：

C02F 1/44 , B01D 61/04 , C02F 1/20

FI (3件)：

C02F 1/44 H , B01D 61/04 , C02F 1/20 A

Fターム (25件)：

4D006GA03 , 4D006KA02 , 4D006KA52 , 4D006KA53 , 4D006KA63 , 4D006KA72 , 4D006KB17 , 4D006KE15Q , 4D006KE15R , 4D006KE19Q , 4D006KE19R , 4D006PB06 , 4D006PB23 , 4D006PB26 , 4D006PB28 , 4D006PC03 , 4D006PC04 , 4D037AA03 , 4D037AB11 , 4D037BA23 , 4D037BB05 , 4D037BB07 , 4D037CA03 , 4D037CA14 , 4D037CA15

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開昭63-036890
超純水製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-005616 出願人：オルガノ株式会社
海水淡水化装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-289866 出願人：栗田工業株式会社

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