特許

J-GLOBAL ID：200903029305056298

蒸着被膜の形成方法

発明者： 飯島 栄一 ,  増田 行男 ,  織井 雄一 ,  箱守 宗人 ,  内田 一也
出願人/特許権者： 株式会社アルバック
代理人 (3件)： 清水 善▲廣▼ ,  阿部 伸一 ,  辻田 幸史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-164388
公開番号（公開出願番号）：特開2004-010943
出願日： 2002年06月05日
公開日（公表日）： 2004年01月15日
要約：

【課題】ピアス式電子銃を用いた電子ビーム蒸着装置を使用して基板の表面に蒸着被膜を形成するに際し、電子ビームを蒸着材料の蒸発ポイントに高い入射角で照射してビーム形状を最適化し、蒸着被膜を優れた成膜速度で形成する方法を提供すること。【解決手段】ピアス式電子銃を用いた電子ビーム蒸着装置を使用して基板の表面に蒸着被膜を形成するに際し、電子ビームを偏向コイルにより偏向させて蒸着材料の蒸発ポイントに40°以上の入射角で照射し、ビーム形状を短径に対する長径の比が1.5以下にすることを特徴とする。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

ピアス式電子銃を用いた電子ビーム蒸着装置を使用して基板の表面に蒸着被膜を形成するに際し、電子ビームを偏向コイルにより偏向させて蒸着材料の蒸発ポイントに40°以上の入射角で照射し、ビーム形状を短径に対する長径の比が1.5以下にすることを特徴とする蒸着被膜の形成方法。

IPC (1件)：

C23C14/30

FI (1件)：

C23C14/30 B

Fターム (6件)：

4K029AA09 ,  4K029BA43 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029DB05 ,  4K029DB22

引用特許：

出願人引用 (4件)

• プラズマディスプレイ保護膜形成装置および保護膜形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-321408   出願人：株式会社アルバック
• 真空蒸着装置における成膜材料供給装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-377143   出願人：日本真空技術株式会社
• 連続真空蒸着装置および連続真空蒸着方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-295279   出願人：石川島播磨重工業株式会社
• 電子ビーム蒸発装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-195069   出願人：日本電子株式会社

審査官引用 (4件)

• プラズマディスプレイ保護膜形成装置および保護膜形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-321408   出願人：株式会社アルバック
• 真空蒸着装置における成膜材料供給装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-377143   出願人：日本真空技術株式会社
• 連続真空蒸着装置および連続真空蒸着方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-295279   出願人：石川島播磨重工業株式会社
• 電子ビーム蒸発装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-195069   出願人：日本電子株式会社