特許
J-GLOBAL ID:200903065234064312

電子ビーム蒸発装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-195069
公開番号(公開出願番号):特開2001-020064
出願日: 1999年07月08日
公開日(公表日): 2001年01月23日
要約:
【要約】【課題】 最適な成膜分布を簡単に得る。【解決手段】 坩堝4の上部近傍に、磁極1A,1Bが作る磁場の磁力線とほぼ平行な磁力線の磁場を形成するための補正用電磁コイル20が設けられている。補正用電磁コイルへ励磁電流を流すための励磁電源21が設けられており、該励磁電源は電子計算機の如き制御装置22の指令に基づいて作動する。メモリ23が設けられており、各加速電圧データに対する補正用励磁電流データが記憶されていおり、該補正用励磁電流データは制御装置22の指令により呼び出され、励磁電源21の出力がコントロールされる様に成されている。
請求項(抜粋):
少なくとも1対の偏向用磁極間に電子銃と蒸発物質を収容した坩堝を設け、前記電子銃から発せられた電子ビームが前記偏向用磁極が形成する磁場により偏向されて前記坩堝内の蒸発物質に照射されるように成しており、この電子ビームの通路上に走査用偏向器を設けて前記蒸発物質上を電子ビームで走査するように成した電子ビーム蒸発装置において、前記蒸発物質に入射する電子ビームの角度が所定の値になるように前記偏向用磁極が形成する磁場強度をコントロール出来るように成したことを特徴とする電子ビーム蒸発装置。
IPC (2件):
C23C 14/30 ,  H01J 37/305
FI (2件):
C23C 14/30 B ,  H01J 37/305 Z
Fターム (5件):
4K029CA01 ,  4K029DB22 ,  5C034BB04 ,  5C034BB06 ,  5C034BB10
引用特許:
出願人引用 (6件)
  • 電子ビーム蒸発方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-168402   出願人:日本電子株式会社
  • 真空蒸発装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-348226   出願人:三菱重工業株式会社, 日本電子株式会社
  • 特開昭62-180068
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審査官引用 (7件)
  • 電子ビーム蒸発方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-168402   出願人:日本電子株式会社
  • 特開昭62-013568
  • 真空蒸発装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-348226   出願人:三菱重工業株式会社, 日本電子株式会社
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