TiO2スパッタコーティング膜の作製方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-047603
公開番号（公開出願番号）：特開2007-224370
出願日： 2006年02月24日
公開日（公表日）： 2007年09月06日
要約：

【課題】加熱せずに基板表面に結晶性のTiO2膜をコーティングすることができ、特にルチル相より高い光触媒活性を有するアナターゼ相を含むTiO2膜を形成させる。【解決手段】TiO2をターゲットとし、O2とArの混合ガス雰囲気中で高周波マグネトロンスパッタリングを行い、非加熱基板にTiO2膜をコーティングする際に、混合ガス中のO2の濃度および混合ガスの全圧を制御し、アナターゼ相を含む結晶性のTiO2膜を形成させる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

TiO2をターゲットとし、O2とArの混合ガス雰囲気中で高周波マグネトロンスパッタリングを行い、非加熱基板にTiO2膜をコーティングするTiO2スパッタコーティング膜の作製方法であって、混合ガス中のO2の濃度および混合ガスの全圧を制御し、アナターゼ相を含む結晶性のTiO2膜を形成させることを特徴とするTiO2スパッタコーティング膜の作製方法。

IPC (4件)：

C23C 14/08 , C23C 14/34 , C01G 23/04 , B01J 35/02

FI (4件)：

C23C14/08 E , C23C14/34 R , C01G23/04 C , B01J35/02 J

Fターム (31件)：

4G047CA02 , 4G047CB04 , 4G047CC03 , 4G047CD02 , 4G169AA03 , 4G169AA08 , 4G169BA14B , 4G169BB04A , 4G169BB04B , 4G169BC50A , 4G169BC50B , 4G169CA00 , 4G169DA05 , 4G169EA07 , 4G169EC25 , 4G169FB02 , 4G169HA11 , 4G169HB02 , 4G169HC08 , 4G169HD13 , 4K029AA09 , 4K029AA24 , 4K029BA48 , 4K029BB08 , 4K029BC00 , 4K029CA06 , 4K029DC05 , 4K029DC35 , 4K029DC39 , 4K029EA03 , 4K029EA08

引用特許：

審査官引用 (3件)

金属酸化物光触媒体及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-116492 出願人：株式会社豊田中央研究所
酸化チタン光触媒膜およびその作製方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-323178 出願人：株式会社安川電機
被膜の被覆方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-077379 出願人：日本板硝子株式会社

引用文献：

審査官引用 (2件)

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