特許
J-GLOBAL ID:200903029410327450
熱処理装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
藤田 隆
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-050281
公開番号(公開出願番号):特開2008-215652
出願日: 2007年02月28日
公開日(公表日): 2008年09月18日
要約:
【課題】被加熱物の熱処理に伴って発生する生成ガスや、生成ガスが冷却されて発生するいわゆる昇華物の漏出を抑制可能な熱処理装置を提供する。【解決手段】被加熱物が配される熱処理室12と、当該熱処理室12の室温を上昇させる熱源14と、前記熱処理室12に被加熱物を出し入れ可能な換装部6とを有し、前記換装部6は、熱処理室12の外部と内部とを繋ぐ空間であり、当該換装部6に、熱処理室12の内部から外部へ流れる気流を遮ることが可能な遮断手段が熱処理室12の内部から外部に向かう方向に複数配置されている。【選択図】図2
請求項(抜粋):
被加熱物が配される熱処理室と、当該熱処理室の室温を上昇させる熱源と、前記熱処理室に被加熱物を出し入れ可能な換装部とを有し、
前記換装部は、熱処理室の外部と内部とを繋ぐ空間であり、
当該換装部に、熱処理室の内部から外部へ流れる気流を遮ることが可能な遮断手段が熱処理室の内部から外部に向かう方向に複数配置されていることを特徴とする熱処理装置。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (9件):
4K061AA01
, 4K061CA21
, 4K061FA11
, 4K063AA05
, 4K063BA06
, 4K063BA12
, 4K063CA02
, 4K063DA15
, 4K063DA23
引用特許:
出願人引用 (1件)
審査官引用 (7件)
-
着色レジスト焼成用オーブン
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-070763
出願人:凸版印刷株式会社
-
特開昭52-124267
-
特開昭52-124267
-
熱処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-184928
出願人:光洋サーモシステム株式会社
-
熱処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-190751
出願人:エスペック株式会社
-
熱処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2005-074942
出願人:エスペック株式会社
-
基板の処理システム及び基板の熱処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-292355
出願人:東京エレクトロン株式会社
全件表示
前のページに戻る