特許
J-GLOBAL ID：200903029625120334
超微粒子材料平坦化成膜方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
工業技術院機械技術研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-150341
公開番号（公開出願番号）：特開2001-038274
出願日： 2000年05月22日
公開日（公表日）： 2001年02月13日
要約：
【要約】【課題】膜内の超微粒子材料の接合が充分で、組織が緻密であり、表面が平滑であり、かつ密度の均一な膜を製造することができる超微粒子材料成膜装置を提供すること【解決手段】超微粒子材料7を基板3上に供給して形成した前記超微粒子材料の堆積物から前記超微粒子材料の膜2を形成する超微粒子材料成膜方法において、前記基板上に供給された前記超微粒子材料の堆積物2aの表面を平坦にする平坦化工程を一回以上加えて前記膜を形成する
請求項（抜粋）：
超微粒子材料を基板上に供給して形成した前記超微粒子材料の堆積膜から前記超微粒子材料の膜を形成する超微粒子材料成膜方法であって、前記基板上に供給された前記超微粒子材料の堆積膜の表面を平坦にする平坦化工程を一回以上加えて前記膜を形成することを特徴とする超微粒子材料平坦化成膜方法。
IPC (6件)：
B05C 11/02
, B01J 19/08
, B02C 19/18
, B05C 9/12
, B05D 3/00
, B05D 3/12
B05C 11/02
, B01J 19/08 H
, B01J 19/08 F
, B02C 19/18
, B05C 9/12
, B05D 3/00 F
, B05D 3/12
