特許
J-GLOBAL ID:200903029652714637

生成物製造装置並びに微粒子の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-308320
公開番号(公開出願番号):特開2006-150347
出願日: 2005年10月24日
公開日(公表日): 2006年06月15日
要約:
【課題】本発明は、超微粒子の粒径分布が非常に狭く、かつ、量産化が可能な反応装置を提供することを目的とする。【解決手段】流体を流路13を経由して、反応路1に流通させ、該反応路1内にて、前記流体から所定の生成物を生成せしめるための生成物製造装置において、前記反応路1における最小幅Tが1mm以下であり、前記反応路における最大幅Wに対して、W≧2Tを満たすことを特徴とする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
流体を流路を経由して、反応路に流通させ、該反応路内にて、前記流体から所定の生成物を生成せしめるための生成物製造装置において、前記反応路における最小幅Tが1mm以下であり、前記反応路における最大幅Wに対して、W≧2Tを満たすことを特徴とする生成物製造装置。
IPC (1件):
B01J 19/00
FI (2件):
B01J19/00 321 ,  B01J19/00 N
Fターム (12件):
4G075AA02 ,  4G075AA27 ,  4G075AA39 ,  4G075AA61 ,  4G075CA02 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EB01 ,  4G075EE01 ,  4G075EE03 ,  4G075FA01 ,  4G075FA12
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (5件)
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