特許
J-GLOBAL ID：200903029790034566

処理液供給システム、これを用いた処理装置、これに用いられる中間貯留機構、および処理液供給方法

発明者：
木村 義雄

木村 義雄 について

, 
大久保 敬弘

大久保 敬弘 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-148502
公開番号（公開出願番号）：特開2000-077324
出願日： 1999年05月27日
公開日（公表日）： 2000年03月14日
要約：
【要約】【課題】 吐出される処理液に脈動が生じることなく、さらに、吐出される処理液にN2ガス等の圧送ガスが混入することなく、現像液等の処理液を供給することができる処理液供給システムを提供すること。【解決手段】 処理液供給源から供給された処理液を一旦貯留し、所定の圧力で再び吐出する中間貯溜機構51、52と、この中間貯溜機構51、52に貯留された処理液に圧力を作用させるための流体を前記中間貯溜機構51、52に供給するための流体供給機構75、76、77とを有し、前記中間貯留機構51、52は、処理液の導入口59と吐出口60とを有し導入口59を通って導入された処理液を貯溜し、かつこれを吐出することが可能な容器53と、この容器53内に設けられ、前記流体供給機構75、76、77から供給された流体と処理液との間に介在し、この流体の圧力を処理液に作用させる加圧体63とを有する。
請求項（抜粋）：
処理液を供給する処理液供給システムであって、処理液を供給する処理液供給源と、処理液供給源から供給された処理液を一旦貯留し、所定の圧力で再び吐出する中間貯溜機構と、この中間貯溜機構に貯留された処理液に圧力を作用させるための流体を、前記中間貯溜機構に供給するための流体供給機構とを具備し、前記中間貯留機構は、処理液の導入口と吐出口とを有し、導入口を通って導入された処理液を貯溜し、かつこれを吐出することが可能な容器と、この容器内に設けられ、前記流体供給機構から供給された流体と処理液との間に介在し、この流体の圧力を処理液に作用させる加圧体とを有することを特徴とする処理液供給システム。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ,  B05C 11/10 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/304 648
FI (4件)：
H01L 21/30 569 Z ,  B05C 11/10 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/304 648 K
引用特許：
出願人引用 (8件)
  • 特開平3-114565
  • 特開平4-197434
  • 特開平4-215420
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審査官引用 (5件)
  • 特開平4-215420
  • 特開平3-114565
  • 特開昭63-097222
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