特許
J-GLOBAL ID:200903029952566834

露光装置及びデバイス製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-151714
公開番号(公開出願番号):特開2005-277363
出願日: 2004年05月21日
公開日(公表日): 2005年10月06日
要約:
【課題】 投影光学系と液体とを介して基板にパターンを投影して露光する際、不要な液体を除去して所望のデバイスパターンを基板上に形成可能な露光装置を提供する。【解決手段】 露光装置は、投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影し、基板を露光する露光装置であって、投影光学系の像面付近に配置された部品上に残留した液体を除去する液体除去機構を備えている。【選択図】 図3
請求項(抜粋):
投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影し、前記基板を露光する露光装置において、 前記投影光学系の像面付近に配置された部品上に残留した液体を除去する液体除去機構を備えたことを特徴とする露光装置。
IPC (1件):
H01L21/027
FI (2件):
H01L21/30 515D ,  H01L21/30 503G
Fターム (8件):
5F046AA18 ,  5F046BA03 ,  5F046CB12 ,  5F046CC01 ,  5F046CC05 ,  5F046DA07 ,  5F046DB05 ,  5F046DC10
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 国際公開第99/49504号パンフレット
審査官引用 (3件)

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