特許
J-GLOBAL ID：200903030031424625

レジスト用ポリマーの製造方法、およびポジ型感放射線性組成物

発明者：
妹尾 将秀

妹尾 将秀 について

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田村 一貴

田村 一貴 について

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仁王 宏之

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出願人/特許権者：
東レ株式会社

東レ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-064771
公開番号（公開出願番号）：特開2003-342306
出願日： 2003年03月11日
公開日（公表日）： 2003年12月03日
要約：
【要約】【課題】 高感度と高解像度の特性を併せ持つレジスト用ポリマーの製造方法、および低露光量で微細なパターン加工が可能なポジ型感放射線性組成物を提供する。【解決手段】エステル基、アルコール性水酸基、およびフェノール性水酸基のうち少なくとも1種を含有する連鎖移動剤を添加してモノマーを重合することを特徴とするレジスト用ポリマーの製造方法、およびこの方法で製造され、且つ酸の作用でアルカリ可溶となるポリマーと、放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有するポジ型感放射線性組成物。
請求項（抜粋）：
エステル基、アルコール性水酸基、およびフェノール性水酸基のうち少なくとも1種を含有する連鎖移動剤を添加してモノマーを重合することを特徴とするレジスト用ポリマーの製造方法。
IPC (4件)：
C08F 2/38 ,  C08F 20/02 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
C08F 2/38 ,  C08F 20/02 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (42件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  4J011AA05 ,  4J011AA06 ,  4J011NA24 ,  4J011NA25 ,  4J011NA30 ,  4J011NB06 ,  4J100AB02Q ,  4J100AB07Q ,  4J100AJ02Q ,  4J100AL03Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA04P ,  4J100BA15P ,  4J100BA40P ,  4J100BB01P ,  4J100BB03P ,  4J100BB18P ,  4J100BC09P ,  4J100BC43P ,  4J100BC43Q ,  4J100BC43R ,  4J100BC49P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100FA04 ,  4J100JA37
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (2件)

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