垂直にスタックされた処理チャンバーおよび単一軸二重ウエハー搬送システムを備えた半導体ウエハー処理システム

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中村稔 (外10名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-609844
公開番号（公開出願番号）：特表2002-541657
出願日： 2000年03月21日
公開日（公表日）： 2002年12月03日
要約：

【要約】垂直にスタックされた半導体ウエハー処理チャンバーを有する多重チャンバーモジュールと、各半導体ウエハー処理チャンバー専用のロードロックチャンバーとを含む半導体ウエハー処理システム。夫々の処理チャンバーは、ウエハー処理の間ウエハーを保持するためのチャックを含む。多重チャンバーモジュールは、線形アレイに配向させればよい。このシステムは更に、前記ロード碌チャンバー内で前記単一旋回軸の回りに旋回可能に装着されたモノリシックなアームを含んだ二重ウエハー単一軸搬送アームを有する装置を含む。この装置は、ロードロックチャンバーと処理チャンバーとの間で、二つのウエハー、即ち、一つの未処理ウエハーおよび一つの処理済みウエハーを同時に運ぶように適合される。また、開示されたシステムを利用する方法も提供される。

請求項（抜粋）：

半導体ウエハー処理システムであって: 半導体ウエハーを搬送するためのフロントエンドロボットを含む大気圧フロントエンドユニットと; 複数の垂直にスタックされた半導体ウエハー処理チャンバーを含む、多重チャンバーモジュールと; 各半導体ウエハー処理チャンバーについて設けられたロードロックチャンバー(ここで、前記ロボットが該ロードロックチャンバーの中に前記ウエハーを搬送する)と; 前記各ロードロックチャンバーと前記夫々のウエハー処理チャンバーとの間でウエハーを搬送するために、各ロードロックチャンバーについて設けられた、夫々のウエハー処理チャンバー専用のウエハー搬送装置とを具備する半導体ウエハー処理システム。

IPC (4件)：

H01L 21/02 , G03F 7/20 521 , H01L 21/31 , H01L 21/68

FI (4件)：

H01L 21/02 Z , G03F 7/20 521 , H01L 21/31 B , H01L 21/68 A

Fターム (22件)：

5F031CA02 , 5F031FA01 , 5F031FA07 , 5F031FA09 , 5F031GA04 , 5F031GA35 , 5F031GA42 , 5F031GA47 , 5F031GA50 , 5F031MA02 , 5F031MA09 , 5F031MA13 , 5F031PA02 , 5F045AA06 , 5F045AE17 , 5F045AE19 , 5F045AE21 , 5F045AE23 , 5F045AE25 , 5F045BB08 , 5F045EB08 , 5F045EN04

引用特許：

審査官引用 (4件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-212551 出願人：国際電気株式会社
搬送装置及び搬送方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-040592 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
ロードロック室を備えた基板の処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-190916 出願人：東京応化工業株式会社

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