特許
J-GLOBAL ID：200903030145101389

露光用マスク群および露光用マスク群の製造方法

発明者：
鏡 一郎

鏡 一郎 について


出願人/特許権者：
ソニー株式会社

ソニー株式会社 について


代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-063413
公開番号（公開出願番号）：特開2005-250308
出願日： 2004年03月08日
公開日（公表日）： 2005年09月15日
要約：
【課題】異なる工程に対応したマスク領域が混在する露光用マスクのパターン密度差を考慮して精度の高い露光用マスク群を製造すること。【解決手段】本発明は、複数の露光工程に対応した複数のマスク領域を1つの透光性基板に配置して成る露光用マスクが複数枚によって構成される露光用マスク群の製造において、複数の露光工程に対応した複数のマスク領域における平均パターン密度を算出し(ステップS2)、1つの露光用マスクを構成する透光性基板に配置する複数のマスク領域として、平均パターン密度の最大最小差が所定の範囲内に収まるような組み合わせを求め(ステップS3〜S4)、この組み合わせに応じて透光性基板に複数のマスク領域を配置して露光パターンを形成する(ステップS5)ものである。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
複数の露光工程に対応した複数のマスク領域を1つの透光性基板に配置して成る露光用マスクが複数枚によって構成される露光用マスク群において、 各露光用マスクに配置される複数のマスク領域の平均パターン密度の最大最小差が所定の範囲内に収まっている ことを特徴とする露光用マスク群。
IPC (3件)：
G03F1/08 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027
FI (4件)：
G03F1/08 D ,  G03F1/08 A ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 502P
Fターム (2件)：
2H095BA02 ,  2H095BB02
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 実開平5-8935号公報
審査官引用 (4件)
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