特許
J-GLOBAL ID:200903030224316897

化学機械的ポリシングマット修整ディスク及びその製法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 木村 高久
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-026534
公開番号(公開出願番号):特開2001-105326
出願日: 2000年02月03日
公開日(公表日): 2001年04月17日
要約:
【要約】【課題】研磨粒子が修正ディスク上に偏って溶接されたり、脱落したりしていた。【解決手段】研磨粒子を溶接材料金属層に型板を介して規則的な位置に配列して導入し、溶接する。この後、溶接材料金属層の上をダイヤモンド又はダイヤモンドライクカ-ボン層で被覆する。
請求項(抜粋):
基質層上に均一な濃度で散布された研磨粒子を具備し、前記研磨粒子は溶接材料で前記基質層上に溶接されていることを特徴とする化学機械的ポリシングマット修整ディスク。
IPC (5件):
B24D 3/00 310 ,  B24D 3/00 320 ,  B24D 3/00 330 ,  B24B 37/00 ,  B24B 53/12
FI (5件):
B24D 3/00 310 B ,  B24D 3/00 320 B ,  B24D 3/00 330 D ,  B24B 37/00 A ,  B24B 53/12 Z
Fターム (18件):
3C047EE18 ,  3C058AA07 ,  3C058AA19 ,  3C058BC02 ,  3C058CB01 ,  3C058CB03 ,  3C058DA12 ,  3C058DA17 ,  3C063AA10 ,  3C063BA37 ,  3C063BB02 ,  3C063BB07 ,  3C063BB24 ,  3C063BC02 ,  3C063BG01 ,  3C063BG07 ,  3C063CC11 ,  3C063FF23
引用特許:
審査官引用 (16件)
  • 超砥粒工具の製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平10-009012   出願人:旭ダイヤモンド工業株式会社
  • 特公昭39-006946
  • 特開昭63-134173
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