特許
J-GLOBAL ID：200903030278548831
成膜方法及びその方法により成膜される膜
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
野河 信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-189201
公開番号（公開出願番号）：特開2001-015438
出願日： 1999年07月02日
公開日（公表日）： 2001年01月19日
要約：
【要約】【課題】 膜の異常酸化、膜剥がれ及びクラックを低減させることを可能とするハロゲン元素の濃度を低減させた金属膜又はシリサイド膜の成膜方法を提供することを課題とする。【解決手段】 堆積装置内にクリーニングガスを通過させることによりクリーニングした後、24時間以内に目的とする金属膜又はシリサイド膜の原料を用いて空堆積が行なわれた堆積装置により、ハロゲン元素の濃度を低減させた金属膜又はシリサイド膜を成膜する成膜方法を提供する。
請求項（抜粋）：
堆積装置内にクリーニングガスを通過させることによりクリーニングした後、24時間以内に目的とする金属膜又はシリサイド膜の原料を用いて空堆積を行った堆積装置により、ハロゲン元素の濃度を低減させた金属膜又はシリサイド膜を成膜することを特徴とする成膜方法。
Fターム (20件)：
5F045AA03
, 5F045AA06
, 5F045AA19
, 5F045AA20
, 5F045AB30
, 5F045AB32
, 5F045AB33
, 5F045AC01
, 5F045AC02
, 5F045AC03
, 5F045AC05
, 5F045AC09
, 5F045AC12
, 5F045AD07
, 5F045AD08
, 5F045AD11
, 5F045AD12
, 5F045BB17
, 5F045DC51
, 5F045EB06
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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