特許

J-GLOBAL ID：200903030311921195

セラミックス部材

発明者： 山田 裕丈
出願人/特許権者： 日本碍子株式会社
代理人 (7件)： 中村 友之 ,  三好 秀和 ,  伊藤 正和 ,  高橋 俊一 ,  高松 俊雄 ,  鈴木 壯兵衞 ,  高久 浩一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-069831
公開番号（公開出願番号）：特開2004-281639
出願日： 2003年03月14日
公開日（公表日）： 2004年10月07日
要約：

【課題】ハロゲンプラズマが生成される反応容器内に少なくとも一部が露出する状態で使用されるセラミックス部材の寿命を延長する。【解決手段】第1のセラミックス材を主成分とする基材と、基材の反応容器内に面した表面を被覆し、第1のセラミックス材より耐プラズマエッチング性が高い第2のセラミックス材を主成分とする被覆層とを有するセラミックス部材である。さらに、上記被覆層は、ハロゲンプラズマによるエッチング速度が局所的に高い領域に厚膜部を有し、厚膜部の膜厚(tt)と、及び厚膜部以外の通常膜厚部の膜厚(tn)とが、以下の式(1)を満たす。tn< tt ≦ (Ee/En)×tn・・・(1)ここで、En:通常膜厚部での被覆層のエッチング速度Ee:厚膜部での被覆層のエッチング速度【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

ハロゲンプラズマが生成される反応容器内に少なくとも一部が露出する状態で使用されるセラミックス部材であって、 第1のセラミックス材を主成分とする基材と、 前記基材の反応容器内に面した表面を被覆し、前記第1のセラミックス材より耐プラズマエッチング性が高い第2のセラミックス材を主成分とする被覆層とを有し、 前記被覆層は、前記ハロゲンプラズマによる前記被覆層のエッチング速度が局所的に高い領域に厚膜部を有し、前記厚膜部の膜厚(tt)、及び前記厚膜部以外の通常膜厚部の膜厚(tn)が、以下の式(1)を満たすことを特徴とするセラミックス部材、 tn< tt ≦ (Ee/En)×tn・・・(1) ここで、En:前記通常膜厚部での被覆層のエッチング速度 Ee:前記厚膜部での被覆層のエッチング速度。

IPC (2件)：

H01L21/3065 ,  C23C4/10

FI (2件)：

H01L21/302 101G ,  C23C4/10

Fターム (14件)：

4K031AA08 ,  4K031AB02 ,  4K031AB09 ,  4K031CB41 ,  4K031CB42 ,  4K031CB43 ,  4K031CB46 ,  4K031CB47 ,  4K031CB50 ,  4K031DA04 ,  4K031EA05 ,  5F004AA16 ,  5F004BA20 ,  5F004BB29

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 処理室のシールド構造及びこれを使用するCVD装置、PVD装置及びエッチング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-347160   出願人：ソニー株式会社
• 耐食性複合部材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-207161   出願人：株式会社日本セラテック, 太平洋セメント株式会社
• 耐プラズマ性部材およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-221844   出願人：東芝セラミックス株式会社, 株式会社東芝