特許
J-GLOBAL ID：200903030317155559
露光方法及びデバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 青山 正和
, 西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-357956
公開番号（公開出願番号）：特開2004-193252
出願日： 2002年12月10日
公開日（公表日）： 2004年07月08日
要約：
【課題】液浸法で基板のエッジ領域を露光する際、基板の外側への液体の流出を防ぎつつ露光処理できる露光方法を提供する。【解決手段】投影光学系PLと基板Pとの間の少なくとも一部を液体で満たし、液体と投影光学系PLとを介してパターンの像を基板P上に投影することによって、基板Pを露光する際、基板Pと投影光学系PLとの間に配置された透明板8と、透明板8と投影光学系PLとの間に満たされた液体とを介して基板P上にパターンの像を投影する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
投影光学系と基板との間の少なくとも一部を液体で満たし、前記液体と前記投影光学系とを介してパターンの像を前記基板上に投影することによって、前記基板を露光する露光方法において、
前記基板と前記投影光学系との間に配置された透明板と、前記透明板と前記投影光学系との間に満たされた液体とを介して前記基板上にパターンの像を投影することを特徴とする露光方法。
IPC (3件)：
H01L21/027
, G02B13/24
, G03F7/20
H01L21/30 515D
, G02B13/24
, G03F7/20 521
2H087KA21
, 2H087LA21
, 2H087NA04
, 2H087UA09
, 5F046BA04
, 5F046BA05
, 5F046CB12
, 5F046CB19
, 5F046CB27
