特許
J-GLOBAL ID：200903030369407211

パターン計測装置、パターン計測方法および半導体装置の製造方法

発明者：
三 井 正

三 井 正 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (6件)： 吉武 賢次 ,  橘谷 英俊 ,  佐藤 泰和 ,  吉元 弘 ,  川崎 康 ,  箱崎 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-083324
公開番号（公開出願番号）：特開2004-294100
出願日： 2003年03月25日
公開日（公表日）： 2004年10月21日
要約：
【課題】正確に焦点が合ったパターン画像から高精度かつ高速にパターンを計測する。【解決手段】パターン計測装置10は、それぞれ異なる焦点位置でパターンP1を撮像して得られた複数のパターン画像の供給を受け、濃度勾配を有するように配置された複数の画素で構成されるパターンのデータである輪郭基準データRDe1をパターン画像上で走査し、検出した輪郭点と輪郭基準データRDe1との規格化相関値を算出する規格化相関値算出部と、算出された相関値に基づいて、得られたパターン画像の合焦状態を判定する合焦状態判定部34と、この判定結果に応じて、複数のパターン画像からパターンP1の計測に適合するパターン画像を選択するパターン画像選択部36と、選択されたパターン画像を処理してパターンP1を計測する計測部38と、を備える。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
計測対象であるパターンを外部の撮像装置によりそれぞれ異なる焦点位置で撮像して得られた複数のパターン画像と、濃度勾配を有するように配置された複数の画素で構成されるパターンのデータであってパターン画像内で前記パターンの輪郭を検出する基準となる輪郭基準データとを格納する記憶手段と、 パターン画像上で前記輪郭基準データを走査し、前記パターンの輪郭点を検出するとともに、検出された前記パターンの輪郭点と前記輪郭基準データとの相関関係を表わす特徴量を算出する特徴量算出手段と、 算出された前記特徴量に基づいて、得られたパターン画像の撮像時の焦点位置が所望のパターン輪郭に適合しているかどうかの程度を表わす合焦状態を判定する合焦状態判定手段と、 前記合焦状態判定手段の判定結果に応じて、前記複数のパターン画像から前記パターンの計測に適合するパターン画像を選択する画像選択手段と、 選択されたパターン画像を処理して前記パターンを計測する計測手段と、 を備えるパターン計測装置。
IPC (5件)：
G01B15/04 ,  G01B11/24 ,  G06T1/00 ,  G06T7/00 ,  H01L21/66
FI (5件)：
G01B15/04 ,  G06T1/00 305A ,  G06T7/00 300F ,  H01L21/66 J ,  G01B11/24 K
Fターム (56件)：
2F065AA01 ,  2F065AA21 ,  2F065AA31 ,  2F065AA56 ,  2F065CC19 ,  2F065DD06 ,  2F065FF01 ,  2F065FF04 ,  2F065JJ03 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ29 ,  2F065QQ31 ,  2F065QQ39 ,  2F067AA01 ,  2F067AA24 ,  2F067AA31 ,  2F067AA54 ,  2F067BB04 ,  2F067CC17 ,  2F067EE10 ,  2F067GG06 ,  2F067HH06 ,  2F067JJ05 ,  2F067KK07 ,  2F067RR21 ,  2F067RR30 ,  2F067RR35 ,  2F067RR36 ,  4M106AA01 ,  4M106AA02 ,  4M106BA02 ,  4M106CA39 ,  4M106DB04 ,  4M106DB05 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ19 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ21 ,  5B057AA03 ,  5B057BA17 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057DA07 ,  5B057DB02 ,  5B057DB09 ,  5B057DC16 ,  5B057DC32 ,  5B057DC36 ,  5L096AA06 ,  5L096BA03 ,  5L096CA03 ,  5L096FA06 ,  5L096FA69 ,  5L096JA11 ,  5L096JA18
引用特許：
審査官引用 (7件)
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