特許
J-GLOBAL ID：200903030456959310
プラズマ処理方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森 道雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-286474
公開番号（公開出願番号）：特開平10-130872
出願日： 1996年10月29日
公開日（公表日）： 1998年05月19日
要約：
【要約】【課題】反応容器内に配設された内筒管への反応生成物の初期付着を抑え、しかも内筒管を昇温する時間を短縮して、スループットを向上させることができるプラズマ処理方法を提供する。【解決手段】反応容器内に設けられた内筒管内でプラズマを発生させ、このプラズマにより試料を処理するプラズマ処理方法であって、処理前に酸素と不活性ガスの混合ガスを導入しプラズマ放電させることにより前記内筒管を加熱するプラズマ処理方法。
請求項（抜粋）：
反応容器内に設けられた内筒管内でプラズマを発生させ、このプラズマにより試料を処理するプラズマ処理方法であって、処理前に酸素と不活性ガスの混合ガスを導入しプラズマ放電させることにより前記内筒管を加熱することを特徴とするプラズマ処理方法。
IPC (3件)：
C23F 4/00
, H01L 21/3065
, C23C 16/50
C23F 4/00 E
, C23C 16/50
, H01L 21/302 B
, H01L 21/302 F
