特許

J-GLOBAL ID：200903030558047250

塗布膜除去装置及び塗布膜除去方法

発明者： 坂本 泰大 ,  鷲尾 康裕
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 大森 純一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-289697
公開番号（公開出願番号）：特開2001-110712
出願日： 1999年10月12日
公開日（公表日）： 2001年04月20日
要約：

【要約】【課題】 周縁部に形成された不要な塗布膜を、簡易な構成で且つ高い精度で除去する。【解決手段】 表面に塗布膜が形成されてなる基板Wを保持し回転駆動するスピンチャック9と、前記基板表面に対してリンス液を吹き付けることで、リンス液を吹き付けた位置の塗布膜を選択的に除去するリンス液吐出ノズル4と、前記基板Wの外縁部に対向して設けられ、この基板の外縁部の位置を検出する位置検出機構3と、スピンチャック9を保持し前記基板Wを前記リンス液吐出ノズル4に対して相対的に駆動するアライメント機構11と、前記位置検出機構3の検出結果に基づいて前記アライメント機構11を制御し、前記基板Wと前記リンス液吐出ノズル4部を相対位置決めする制御部15とを有する。

請求項（抜粋）：

表面に塗布膜が形成されてなる基板を保持する基板保持機構と、前記基板表面に対してリンス液を吹き付けることで、リンス液を吹き付けた位置の塗布膜を選択的に除去するリンス液吐出部と、前記基板の外縁部に対向して設けられ、この基板の外縁部の位置を検出する位置検出部と、前記基板と前記リンス液吐出部を相対的に駆動するアライメント機構と前記位置検出部の検出結果に基づいて前記アライメント機構を制御し、前記基板と前記リンス液吐出部を相対位置決めする制御部とを有することを特徴とする塗布膜除去装置。

IPC (9件)：

H01L 21/027 ,  B05C 5/00 101 ,  B05C 9/14 ,  B05C 11/10 ,  B05D 1/40 ,  B05D 3/10 ,  B05D 7/00 ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/42

FI (9件)：

B05C 5/00 101 ,  B05C 9/14 ,  B05C 11/10 ,  B05D 1/40 A ,  B05D 3/10 N ,  B05D 7/00 H ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/30 577

Fターム (34件)：

2H025AA18 ,  2H025AB16 ,  2H025EA05 ,  2H025EA10 ,  2H096AA25 ,  2H096CA20 ,  2H096DA04 ,  2H096DA10 ,  2H096LA30 ,  4D075AC64 ,  4D075AC79 ,  4D075AC93 ,  4D075AC94 ,  4D075DA08 ,  4D075DC22 ,  4F041AA06 ,  4F041AB02 ,  4F041BA05 ,  4F041BA22 ,  4F041BA35 ,  4F041BA38 ,  4F041CA02 ,  4F041CA11 ,  4F041CA17 ,  4F042AA07 ,  4F042BA08 ,  4F042CC04 ,  4F042CC09 ,  4F042DB01 ,  4F042EB19 ,  4F042EB25 ,  5F046JA02 ,  5F046JA09 ,  5F046JA15

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 周辺露光装置および周辺露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-084937   出願人：ソニー株式会社
• 基板端縁処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-046912   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 半導体製造工程におけるフォトレジスト洗浄用シンナー組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-164248   出願人：三星電子株式会社