微細欠陥検査装置およびその方法並びに位置ずれ算出回路

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高橋明夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-171185
公開番号（公開出願番号）：特開2001-005961
出願日： 1999年06月17日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
要約：

【要約】【課題】微細なパターンを有する被検査対象基板上の微細な欠陥を検出するために、微細な画素寸法で画像を検出する必要がある。このとき、位置合せ範囲が等価的に広くなるので、広範囲を高速に位置合せ処理する必要がある。また、画像処理回路は高速かつ小型化をする必要がある。【解決手段】DUV光による光学系または電子線による画像検出系を用い、0.2mm以下の画素寸法の画像を得る。このとき、位置ずれ検出の探索範囲を±4画素以上とする。また、1枚の基板15にkチャンネルの処理が可能なLSIから構成された画像処理回路10、11を実装することにより高速かつ小型の画像処理部13を実現する。

請求項（抜粋）：

被検査対象基板上から画素寸法が0.2μm以下からなる画像信号を検出する画像信号検出部と、該画像信号検出部から検出される画像信号をA/D変換して検出画像データを出力するA/D変換部と、該A/D変換部から出力される検出画像データの比較対象となる参照画像データを出力する参照画像出力部と、前記A/D変換部から入力される検出画像データと前記参照画像出力部から入力される参照画像データとの間において位置ずれ検出を±4画素以上の探索範囲で行って両画像データの間の位置ずれ量を算出する位置ずれ検出回路と該位置ずれ検出回路で算出された位置ずれ量に基いて前記検出画像データと参照画像データとを位置ずれ補正する位置ずれ補正回路とを備えて構成した位置ずれ検出・補正回路部と、該位置ずれ検出・補正回路部で位置ずれ補正された検出画像データと参照画像データとを比較してその差を求め、該差が所望の閾値以上のものを欠陥候補点としてその欠陥候補点に関する情報を抽出する比較回路を備え、欠陥候補点に関する情報を出力する比較回路部とを備えたことを特徴とする微細欠陥検査装置。

IPC (3件)：

G06T 7/00 , G01N 21/88 , H01L 21/66

FI (4件)：

G06F 15/62 405 A , G01N 21/88 J , H01L 21/66 J , G01N 21/88 645 A

Fターム (60件)：

2G051AA51 , 2G051AA56 , 2G051AA73 , 2G051AB01 , 2G051AB02 , 2G051AB20 , 2G051AC02 , 2G051BA05 , 2G051BA10 , 2G051BA11 , 2G051BA20 , 2G051BB11 , 2G051CA03 , 2G051CA04 , 2G051CB01 , 2G051CB05 , 2G051CB06 , 2G051DA07 , 2G051EA02 , 2G051EA04 , 2G051EA08 , 2G051EA12 , 2G051EA14 , 2G051EA19 , 2G051EB01 , 2G051EB02 , 2G051ED04 , 2G051ED07 , 2G051ED23 , 4M106AA09 , 4M106BA05 , 4M106BA07 , 4M106CA39 , 4M106CA41 , 4M106CA50 , 4M106DB04 , 4M106DB07 , 4M106DB08 , 4M106DB18 , 4M106DB20 , 4M106DB21 , 4M106DB30 , 4M106DJ11 , 4M106DJ14 , 4M106DJ18 , 4M106DJ21 , 5B057AA03 , 5B057BA02 , 5B057BA11 , 5B057CA12 , 5B057CA16 , 5B057CB12 , 5B057CB16 , 5B057CC02 , 5B057CE08 , 5B057CE09 , 5B057CH04 , 5B057DA03 , 5B057DA07 , 5B057DC32

引用特許：

審査官引用 (6件)

欠陥検査方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-225682 出願人：株式会社日立製作所
画像処理装置及び画像処理方法及び半導体パッケージ外観検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-161785 出願人：株式会社日立製作所, 日立米沢電子株式会社
欠陥検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-295606 出願人：株式会社ニコン

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