特許
J-GLOBAL ID：200903030605324918
多層構造体およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-273698
公開番号（公開出願番号）：特開平10-119210
出願日： 1996年10月16日
公開日（公表日）： 1998年05月12日
要約：
【要約】【課題】基材とシーラント層とを接着剤を用いずにラミネートした多層構造体及びその製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】基材と直鎖低密度ポリエチレンとが積層された多層構造体において、該直鎖低密度ポリエチレンがシングルサイト系触媒により重合された直鎖低密度ポリエチレンであり、該直鎖低密度ポリエチレンの基材と接する側に該直鎖低密度ポリエチレンの酸化層が形成されて成ることを特徴とする多層構造体およびその製造方法である。
請求項（抜粋）：
基材と直鎖低密度ポリエチレンとが積層された多層構造体において、該直鎖低密度ポリエチレンがシングルサイト系触媒により重合された直鎖低密度ポリエチレンであり、該直鎖低密度ポリエチレンの基材と接する側に該直鎖低密度ポリエチレンの酸化層が形成されて成ることを特徴とする多層構造体。
IPC (6件)：
B32B 27/32 103
, B32B 27/16
, B32B 27/36
, C08J 7/00 CES
, C08J 7/00 303
, C08L 23/04
B32B 27/32 103
, B32B 27/16
, B32B 27/36
, C08J 7/00 CES A
, C08J 7/00 303
, C08L 23/04
