特許
J-GLOBAL ID：200903030605832344

光触媒酸化チタン原料用メタチタン酸スラリー及びその製造方法

発明者：
久保田 守

久保田 守 について

, 
部坂 秀樹

部坂 秀樹 について


出願人/特許権者：
チタン工業株式会社

チタン工業株式会社 について


代理人 (6件)： 社本 一夫 ,  小野 新次郎 ,  小林 泰 ,  千葉 昭男 ,  富田 博行 ,  松本 謙
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-338032
公開番号（公開出願番号）：特開2008-150232
出願日： 2006年12月15日
公開日（公表日）： 2008年07月03日
要約：
【課題】各種光触媒能に優れた光触媒用酸化チタンを製造することが可能となる、光触媒用酸化チタンの前駆体としてのメタチタン酸スラリーを提供する。【解決手段】TiO2として40g/L、及び温度を30°Cの条件に調整したときのスラリーの沈降速度を15〜30mm/30分とする光触媒酸化チタン用メタチタン酸スラリーで、硫酸チタニル溶液に、別途作製したアナターゼシードを硫酸チタニル溶液中のTiO2に対して3〜10質量%添加し、沸点以上で加熱加水分解後、ろ過、洗浄して、その後、スラリー化してpH4〜7で中和洗浄して製造される。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
TiO2として40g/L、及び温度を30°Cの条件に調整したときの沈降速度が15〜30mm/30分であることを特徴とする光触媒酸化チタン原料用メタチタン酸スラリー。
IPC (2件)：
C01G 23/00 ,  B01J 35/02
FI (2件)：
C01G23/00 Z ,  B01J35/02 J
Fターム (31件)：
4G047CA01 ,  4G047CA02 ,  4G047CB05 ,  4G047CC03 ,  4G047CD02 ,  4G047CD04 ,  4G047CD07 ,  4G047JA01 ,  4G169AA03 ,  4G169AA05 ,  4G169AA08 ,  4G169BA37 ,  4G169BA48A ,  4G169BB06A ,  4G169BB06B ,  4G169CA10 ,  4G169CA11 ,  4G169EA01Y ,  4G169EC03X ,  4G169EC03Y ,  4G169FA01 ,  4G169FB23 ,  4G169FB27 ,  4G169FB29 ,  4G169HA01 ,  4G169HB01 ,  4G169HC15 ,  4G169HD03 ,  4G169HD11 ,  4G169HF05 ,  4G169HF08
引用特許：
出願人引用 (5件)
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