排ガス処理方法および装置

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-028964
公開番号（公開出願番号）：特開2001-221427
出願日： 2000年02月07日
公開日（公表日）： 2001年08月17日
要約：

【要約】【課題】排ガスが、排ガス処理装置を通過した後、煙突で排出されるまでの間に生じる有機ハロゲン化合物の再合成を抑制する排ガス処理方法を提供する。また、それに用いられる排ガス処理装置を提供する。【解決手段】排ガス処理装置を通過した後の排ガスを、煙道内での排ガス滞留時間を1秒以内、排ガス温度を150°C以下に、空気または水によって冷却する排ガス処理方法および排ガス処理装置。

請求項（抜粋）：

有機ハロゲン化合物を含む排ガスを処理する方法であって、排ガス処理装置で排ガスを処理し、煙突から排ガスを排出する方法において、排ガス処理装置出口直後に排ガスを冷却することを特徴とする排ガス処理方法。

IPC (5件)：

F23J 15/06 , B01D 53/34 ZAB , B01D 53/70 , B01D 53/86 , B01J 21/06

FI (5件)：

B01J 21/06 A , F23J 15/00 K , B01D 53/34 ZAB , B01D 53/34 134 E , B01D 53/36 G

Fターム (43件)：

3K070DA05 , 3K070DA25 , 3K070DA27 , 4D002AA21 , 4D002AC04 , 4D002BA13 , 4D002BA14 , 4D002CA01 , 4D002CA20 , 4D002DA35 , 4D002EA02 , 4D002GA01 , 4D002GB02 , 4D002GB03 , 4D002GB20 , 4D048AA11 , 4D048AB03 , 4D048BA07Y , 4D048BA23Y , 4D048BA26Y , 4D048BA27Y , 4D048BA41Y , 4D048CC39 , 4D048CC51 , 4D048CD03 , 4D048CD05 , 4D048CD08 , 4D048CD10 , 4D048DA01 , 4D048DA03 , 4D048DA06 , 4D048DA20 , 4D048EA07 , 4G069AA03 , 4G069BB04B , 4G069BC50B , 4G069BC54B , 4G069BC59B , 4G069BC60B , 4G069CA02 , 4G069CA10 , 4G069CA19 , 4G069DA06

引用特許：

審査官引用 (5件)

ごみの焼却方法および焼却装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-198375 出願人：株式会社日立製作所, 株式会社日立エンジニアリングサービス
燃焼炉の排ガス処理方法および処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-064026 出願人：川崎製鉄株式会社
厨芥処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-174010 出願人：リコーエレメックス株式会社

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