特許
J-GLOBAL ID：200903030716108629

処理装置及び処理方法

発明者：
飽本 正巳

飽本 正巳 について

, 
出口 洋一

出口 洋一 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-245610
公開番号（公開出願番号）：特開2001-127138
出願日： 1993年12月28日
公開日（公表日）： 2001年05月11日
要約：
【要約】【課題】 処理環境や雰囲気に影響されずに被処理体へのパーティクル等の付着を防止し、製品歩留まりの向上を図る。【解決手段】 ウエハWを収納するカセット1を搬出入可能に封入するコンテナ2を、クランプ7又は押圧部材8をもって気密室20上に気密に締結する。コンテナ2と気密室20との間に開閉可能なシャッタ21を設け、気密室20内に、コンテナ2との間でカセット1を搬出入する昇降機構30を配設する。気密室20とウエハWを処理する処理室13a〜13eとカセット載置室15とを有する処理部10との間にウエハ受渡し用ピンセット16を配設する受渡し室40を設ける。これにより、コンテナ2内に封入されたカセット1に収納されたウエハWを外気に晒すことなく処理部10に搬送することができると共に、処理部10にて処理が施されたウエハWを処理部10からカセット1内に収納した後、カセット1をコンテナ2内に搬送することができる。
請求項（抜粋）：
被処理体を処理する処理室と、上記被処理体を収納するカセットを載置するカセット載置室と上記処理室との間で被処理体を搬出入する被処理体搬送手段とを有する処理部と、上記カセットを搬出入可能に封入するコンテナと、上記コンテナと処理部との間に気密に介在される気密室と、上記気密室内に配設されて、上記コンテナとの間で上記カセットを搬出入するカセット搬送手段と、上記気密室と処理部との間に介在されて、上記カセット搬送手段にて搬送されたカセットとカセット載置室との間で上記被処理体を受渡しする被処理体受渡し手段と、上記コンテナと気密室とを接続すると共に、着脱可能な締結手段と、上記コンテナと気密室との間に設けられる開閉可能なシャッタと、を具備することを特徴とする処理装置。
IPC (8件)：
H01L 21/68 ,  B65G 49/00 ,  B65G 49/06 ,  B65G 49/07 ,  C23C 14/56 ,  C23C 16/44 ,  H01L 21/265 603 ,  H01L 21/027
FI (9件)：
H01L 21/68 A ,  H01L 21/68 T ,  B65G 49/00 A ,  B65G 49/06 Z ,  B65G 49/07 L ,  C23C 14/56 G ,  C23C 16/44 F ,  H01L 21/265 603 C ,  H01L 21/30 502 J
引用特許：
審査官引用 (6件)
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