気液接触装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中島淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-053513
公開番号（公開出願番号）：特開2002-253918
出願日： 2001年02月28日
公開日（公表日）： 2002年09月10日
要約：

【要約】【課題】補給水量を削減し、溶剤吸収効率を維持すると共に最終的に排出される水の溶剤濃度を高濃度とする気液接触装置を得る。【解決手段】ガス中の溶剤を吸収した水が、処理槽14から排水され凍結装置22へ送られる。凍結装置22が水を凍結することで、凝固点の違いから溶剤は凍結することなく、水は凍結して純水に近い氷となる。この氷を融解して処理槽14で再び使用して、新鮮水の水量を削減する。水と分離された未凍結水の溶剤の濃度は濃縮されて高くなっており、この高濃度の溶剤を含有する水を洗浄剤、燃料、平版印刷版に塗布する塗布液として使用することができる。また、凍結装置22の冷却面に生成される氷結晶の製氷速度を制御することで、氷が含有する溶剤濃度を調整することができる。

請求項（抜粋）：

処理塔を通過するガスと処理塔へ供給される水とを接触させ、ガス中の溶剤を水に吸収させる気液接触装置において、ガス発生源からガスが導入される処理塔と、この処理塔へ水を供給すると共に溶剤を吸収した水が還流する処理槽とで構成される気液接触ユニットと、前記処理槽から排水され溶剤を含有する水を凍結する凍結手段と、前記凍結手段で凍結された氷を融解して前記処理槽へ送水するリサイクル手段と、を有し、前記凍結手段が、冷媒で冷却される冷却面を備えており、この冷却面の製氷速度を制御して、冷却面に生じる氷が含有する溶剤濃度を調整することを特徴とする気液接触装置。

IPC (4件)：

B01D 53/18 , B01D 53/34 ZAB , B01D 53/44 , B01D 53/77

FI (3件)：

B01D 53/18 Z , B01D 53/34 ZAB , B01D 53/34 117 C

Fターム (31件)：

4D002AA40 , 4D002AB03 , 4D002AC07 , 4D002BA02 , 4D002CA01 , 4D002CA07 , 4D002DA35 , 4D002EA07 , 4D002EA08 , 4D002FA01 , 4D002GA01 , 4D002GA02 , 4D002GA03 , 4D002GB06 , 4D002GB11 , 4D002GB20 , 4D002HA08 , 4D020AA08 , 4D020BA23 , 4D020BC01 , 4D020BC10 , 4D020CB08 , 4D020CB25 , 4D020CC09 , 4D020CC12 , 4D020DA01 , 4D020DA02 , 4D020DA03 , 4D020DB05 , 4D020DB06 , 4D020DB20

引用特許：

出願人引用 (4件)

排ガス処理方法および処理設備
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-032011 出願人：株式会社タクマ
酸水溶液からヒ素を回収する方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2002-549588 出願人：バリック・ゴールド・コーポレイション
高濃度水溶液の濃縮方法とその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-182408 出願人：株式会社前川製作所

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