特許

J-GLOBAL ID：200903030812061765

ペロブスカイト型酸化物のエッチング方法

発明者： イマニュエル・イズリエル・クーパー ,  ピーター・リチャード・ダンコーム ,  ロバート・ベンジャミン・ライボヴィッツ ,  ロバート・ローゼンバーグ
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
代理人 (1件)： 坂口 博 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-098333
公開番号（公開出願番号）：特開2000-031133
出願日： 1999年04月06日
公開日（公表日）： 2000年01月28日
要約：

【要約】【課題】 チタン酸塩誘電膜などのペロブスカイト型酸化膜表面のエッチングまたは洗浄に穏和な条件で用いることができるエッチャント溶液を提供すること。【解決手段】 このエッチャント溶液は、過酸化水素および任意選択で錯化剤を含む。この溶液をペロブスカイト型酸化膜のエッチング、洗浄、またはペロブスカイト型酸化膜への導電材料の付着に用いることで、下にある構造に悪い影響を与えることなく、選択性の高い有効なエッチングおよび洗浄が行われ、金属の付着が強化される。

請求項（抜粋）：

ペロブスカイト型酸化膜表面を、周囲条件下で、過酸化水素(H2O2)を含むエッチャント溶液に接触させることを含む、ペロブスカイト酸化膜表面をエッチングまたは洗浄あるいはその両方を行う方法。

IPC (3件)：

H01L 21/308 ,  C09K 13/04 ,  H01L 21/304 647

FI (3件)：

H01L 21/308 E ,  C09K 13/04 ,  H01L 21/304 647 Z

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 半導体素子の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-218743   出願人：沖電気工業株式会社
• 薄膜コンデンサの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-203809   出願人：株式会社東芝
• 強誘電性材料表面用研磨剤及び研磨方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-082605   出願人：テキサスインスツルメンツインコーポレイテツド