特許
J-GLOBAL ID：200903030828588780

3次元形状測定方法

発明者：
谷川 洋平

谷川 洋平 について

, 
伊藤 直

伊藤 直 について


出願人/特許権者：
オリンパス株式会社

オリンパス株式会社 について


代理人 (1件)： 斎藤 圭介
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-147609
公開番号（公開出願番号）：特開2006-322868
出願日： 2005年05月20日
公開日（公表日）： 2006年11月30日
要約：
【課題】安価かつ簡易な構成の装置により、簡便な手順で高精度に3次元形状測定を行うことができる3次元形状測定方法を提供すること。【解決手段】被測定物200を所定の回転軸AXの周りに回転させる回転工程と、回転軸AXと略直交する方向について、第1の位置X=-Lから回転軸AXまで被測定物200の形状を測定する第1測定工程と、回転軸AXと略直交する方向について、回転軸AXから第2の位置X=Lまで被測定物200の形状を測定する第2測定工程と、第1測定工程で得られた第1の測定データと、第2測定工程で得られた第2の測定データとに基づいて回転軸AXの回転誤差を補正するための回転誤差パラメータを算出する補正値算出工程と、補正値算出工程で算出された回転誤差パラメータに基づいて被測定物200の形状を補正する補正工程とを有する。【選択図】 図7
請求項（抜粋）：
被測定物を所定の回転軸の周りに回転させる回転工程と、 前記回転軸と略直交する方向について、回転軸の片側にある第1の位置において前記被測定物の形状を測定する第1測定工程と、 前記回転軸と略直交する方向について、回転軸に関して前記第1の位置とは逆側にある第2の位置において前記被測定物の形状を測定する第2測定工程と、 前記第1測定工程で得られた第1の測定データと、前記第2測定工程で得られた第2の測定データとに基づいて前記回転軸の回転誤差を補正するための回転誤差補正値を算出する補正値算出工程と、 前記補正値算出工程で算出された前記回転誤差補正値に基づいて前記被測定物の形状を補正する補正工程と、を有することを特徴とする3次元形状測定方法。
IPC (1件)：
G01B 21/20
FI (1件)：
G01B21/20 C
Fターム (15件)：
2F069AA66 ,  2F069DD30 ,  2F069EE04 ,  2F069EE22 ,  2F069GG01 ,  2F069GG11 ,  2F069GG52 ,  2F069GG62 ,  2F069HH02 ,  2F069JJ07 ,  2F069JJ17 ,  2F069JJ19 ,  2F069LL02 ,  2F069MM02 ,  2F069NN16
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (4件)
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