特許

J-GLOBAL ID：200903031056917410

ウエハー熱処理装置

発明者： 荻野 耕三
出願人/特許権者： 日本ピラー工業株式会社
代理人 (1件)： 永田 良昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-274077
公開番号（公開出願番号）：特開平10-098048
出願日： 1996年09月24日
公開日（公表日）： 1998年04月14日
要約：

【要約】【課題】結晶転移の生じる部分が少なく、ウエハー全体を均一に熱処理することができるウエハー熱処理装置を提供する。【解決手段】ウエハーの外周端部を支持体の傾斜面により均一に支持するので、ウエハー全体を均一に熱処理することができる。結晶転移の生じる部分が少なく、歩留まりが良くなるため、一枚のウエハーから得られる半導体の個数が増加し、製造コストの低減が図れる。ウエハーの外周端部を複数の傾斜面により部分的に支持して、相互の接触箇所及び接触面積を少なくすることで、結晶転移の生じる要因及び部分が削減され、品質の向上及び安定を図ることができる。炭化ケイ素製の支持体は熱伝導性が良く、支持体自体の熱がウエハーに直接伝導されるため、熱損失が少なく、ウエハーの熱処理が効率よく行える。

請求項（抜粋）：

支持体により支持されたウエハーを加熱炉内に搬入して均一に熱処理するウエハー熱処理装置であって、上記支持体を、上記ウエハーの外周端部と対応する形状であって、該外周端部が水平に支持される大きさに形成し、上記支持体の上面側に、上記ウエハーの外周端部を支持する傾斜面を形成すると共に、該傾斜面を外周側から内周側に向けて低くなる角度に斜設したウエハー熱処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/324 ,  C23C 16/44

FI (2件)：

H01L 21/324 Q ,  C23C 16/44

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 加熱装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-063466   出願人：日本碍子株式会社
• 改質装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-206144   出願人：株式会社日立製作所
• 熱処理方法及び熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-041177   出願人：富士通株式会社
• 特開平2-186622