特許
J-GLOBAL ID：200903031235099630

レジスト組成物の製造方法

発明者：
花元 幸夫

花元 幸夫 について


出願人/特許権者：
住友化学工業株式会社

住友化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-173377
公開番号（公開出願番号）：特開2001-350266
出願日： 2000年06月09日
公開日（公表日）： 2001年12月21日
要約：
【要約】【課題】 保存安定性に優れたフォトレジストを提供する。【解決手段】 バインダー成分、酸発生剤及び溶剤を含有する粗レジスト組成物を、正のゼータ電位を有するフィルターに通過させることを特徴とするフォトレジスト組成物の製造方法。
請求項（抜粋）：
バインダー成分、酸発生剤及び溶剤を含有する粗レジスト組成物を、正のゼータ電位を有するフィルターに通過させることを特徴とするフォトレジスト組成物の製造方法。
IPC (3件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/038 601 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/038 601 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (18件)：
2H025AA00 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB00 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025EA01 ,  2H025EA04 ,  2H025FA17
引用特許：
審査官引用 (5件)
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