特許
J-GLOBAL ID：200903042269266309
化学増幅型レジスト組成物、その調製方法及びそれを用いたパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩野 平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-307366
公開番号（公開出願番号）：特開2001-125269
出願日： 1999年10月28日
公開日（公表日）： 2001年05月11日
要約：
【要約】【課題】塗布性・保存安定性を有し、高感度で感度安定性に優れた、酸発生剤と酸分解性樹脂を含有する化学増幅型レジスト組成物を得る。【解決手段】酸発生剤と酸分解性樹脂を含有するレジスト溶液を、材質としてポリエチレン、ナイロンまたはポリスルホンを含有するフィルターを用いて濾過して化学増幅型レジスト組成物を得る。
請求項（抜粋）：
酸発生剤と酸分解性樹脂を含有するレジスト溶液を、材質としてポリエチレン、ナイロンまたはポリスルホンを含有するフィルターを用いて濾過して得たことを特徴とする化学増幅型レジスト組成物。
Fターム (13件)：
2H025AA01
, 2H025AA04
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB41
, 2H025CB43
, 2H025CB45
, 2H025EA01
