特許
J-GLOBAL ID:200903031300118796

膜形成用組成物、膜の製造方法および多孔質膜

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-289476
公開番号(公開出願番号):特開2000-119600
出願日: 1998年10月12日
公開日(公表日): 2000年04月25日
要約:
【要約】【目的】 膜形成用組成物、さらに詳しくは、密着性、塗膜の均一性等に優れた、低誘電率膜形成用組成物、該組成物を硬化して得られる多孔質膜を得る。【構成】 (A)下記一般式(1)で表される化合物の加水分解物およびその部分縮合物またはいずれか一方R1nSi(OR2)4-n (1)(R1 およびR2 は、同一でも異なっていても良く、それぞれ1価の有機基を示し、nは0〜2の整数を表す。)(B)前記(A)成分に相溶または分散し、沸点または分解温度が250〜450°Cである化合物(C)沸点250°C未満のエステル系有機溶媒を含むことを特徴とする膜形成用組成物。
請求項(抜粋):
(A)下記一般式(1)で表される化合物の加水分解物およびその部分縮合物またはいずれか一方R1nSi(OR2)4-n (1)(R1 およびR2 は、同一でも異なっていても良く、それぞれ1価の有機基を示し、nは0〜2の整数を表す。)(B)前記(A)成分に相溶または分散し、沸点または分解温度が250〜450°Cである化合物(C)沸点250°C未満のエステル系有機溶媒を含むことを特徴とする膜形成用組成物。
IPC (6件):
C09D201/00 ,  C09D165/00 ,  C09D179/08 ,  C09D183/06 ,  H01L 21/312 ,  H01L 21/316
FI (6件):
C09D201/00 ,  C09D165/00 ,  C09D179/08 ,  C09D183/06 ,  H01L 21/312 A ,  H01L 21/316 H
Fターム (30件):
4J038BA012 ,  4J038BA042 ,  4J038BA052 ,  4J038BA122 ,  4J038BA162 ,  4J038CC032 ,  4J038CG172 ,  4J038CK022 ,  4J038CK032 ,  4J038CR072 ,  4J038DF022 ,  4J038DF062 ,  4J038DJ022 ,  4J038DL021 ,  4J038DL051 ,  4J038JA19 ,  4J038JA22 ,  4J038JA61 ,  4J038JC38 ,  4J038KA09 ,  4J038MA07 ,  4J038NA12 ,  4J038NA17 ,  4J038NA21 ,  4J038PA19 ,  5F058AA08 ,  5F058AB10 ,  5F058AC02 ,  5F058AF04 ,  5F058AH02
引用特許:
審査官引用 (6件)
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