導電膜、低反射性導電膜およびその形成方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田勝広 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-295981
公開番号（公開出願番号）：特開平9-115438
出願日： 1995年10月20日
公開日（公表日）： 1997年05月02日
要約：

【要約】【課題】低温熱処理により形成が可能な高性能導電膜および低反射導電膜を新規に提供すること。【課題解決手段】特定の金属群から選ばれる少なくとも1種の金属微粒子のゾルを含む塗布液を基体上に塗布して加熱することを特徴とする導電膜の形成方法。

請求項（抜粋）：

Ag、Ru、Re、Ir、Os、Pt、Rh、Pd、Ni、Co、Sn、Cr、AuおよびInからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属微粒子のゾルを含む塗布液を基体上に塗布して加熱することを特徴とする導電膜の形成方法。

IPC (4件)：

H01J 9/20 , H01J 29/88 , H01J 29/89 , H05K 9/00

FI (5件)：

H01J 9/20 A , H01J 29/88 , H01J 29/89 , H05K 9/00 W , H05K 9/00 M

引用特許：

審査官引用 (9件)

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