特許

J-GLOBAL ID：200903031352033322

クロムレス位相シフトマスク用フォトマスクブランク、クロムレス位相シフトマスク、及びクロムレス位相シフトマスクの製造方法

発明者： 小嶋 洋介 ,  大嶋 敬 ,  吉川 博樹 ,  稲月 判臣 ,  金子 英雄 ,  岡崎 智
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社 ,  信越化学工業株式会社
代理人 (8件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  峰 隆司 ,  福原 淑弘 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-066632
公開番号（公開出願番号）：特開2007-241136
出願日： 2006年03月10日
公開日（公表日）： 2007年09月20日
要約：

【課題】CDパフォーマンスが大幅に改善されたクロムレス位相シフトマスク及びその製造方法を提供すること。【解決手段】 露光光に対して透明な基板に掘り込み部を設け、透過する光の位相を制御したクロムレス位相シフトマスクにおいて、前記基板掘り込み部に隣接する部分又は基板周辺部に設けられた遮光膜が、フッ素系ガスを主体とするエッチングガスを用いたエッチングプロセスにおいてエッチング可能な材料からなる膜Aを含むことを特徴とするクロムレス位相シフトマスク。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

露光光に対して透明な基板に掘り込み部を設け、透過する光の位相を制御したクロムレス位相シフトマスクにおいて、前記基板掘り込み部に隣接する部分又は基板周辺部に設けられた遮光膜が、フッ素系ガスを主体とするエッチングガスを用いたエッチングプロセスにおいてエッチング可能な材料からなる膜Aを含むことを特徴とするクロムレス位相シフトマスク。

IPC (1件)：

G03F 1/08

FI (1件)：

G03F1/08 G

Fターム (4件)：

2H095BB03 ,  2H095BC05 ,  2H095BC11 ,  2H095BC24

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 位相シフトフォトマスクの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-186058   出願人：大日本印刷株式会社

審査官引用 (4件)

• 位相シフトマスクおよび、これを用いたパターン露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-090127   出願人：株式会社ルネサステクノロジ
• 位相シフトマスクおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-258030   出願人：三菱電機株式会社
• 位相シフトマスクおよびそれに用いるマスクブランク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-265341   出願人：凸版印刷株式会社
• ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-127454   出願人：HOYA株式会社