特許
J-GLOBAL ID：200903031400190850

回折格子および光導体の製造方法

発明者：
ヨハネス エドリンガー

ヨハネス エドリンガー について

, 
ヘルムート ルディギール

ヘルムート ルディギール について


出願人/特許権者：
バルツェルス アクチェンゲゼルシャフト

バルツェルス アクチェンゲゼルシャフト について


代理人 (1件)： 石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-320311
公開番号（公開出願番号）：特開平8-220317
出願日： 1995年12月08日
公開日（公表日）： 1996年08月30日
要約：
【要約】【課題】 高屈折率の誘電体皮膜と基板系に結合及び解離格子を製造する安価で大量生産に適した方法を提供する。【解決手段】 基板上の高屈折率の誘電皮膜に光を結合及び解離するための回折格子構造を製造する方法において、高屈折率の誘電皮膜及び/又は基板に、同時空間的に周期的に強度変調した紫外レーザー光を照射し、しかも強度変調の周期を所望の格子周期に対応して選択する。好ましくは、前記強度変調を少なくとも互いに干渉する2つの紫外レーザー光か、好ましくはマスク構造によって行い、前記紫外レーザー光を1つ以上のエキシマーレーザーによって形成し、紫外レーザー光を所定時間内に、好ましくは1μs以下パルス時間で1回以上発振し、高屈折率の皮膜及び/又は少なくとも基板の表面区域の屈折率をレーザー光によって空間的に変調する。
請求項（抜粋）：
基板上の高屈折率の誘電体皮膜に光を結合/解離するための回折格子構造を製造する方法において、高屈折率の誘電体皮膜及び/又は基板に、同時空間的に周期的に強度変調した紫外レーザー光を照射し、しかも強度変調の周期を所望の格子周期に対応して選択することを特徴とする方法。
IPC (3件)：
G02B 5/18 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/06
FI (5件)：
G02B 5/18 ,  B23K 26/00 E ,  B23K 26/00 N ,  B23K 26/06 E ,  B23K 26/06 J
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (5件)
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