特許
J-GLOBAL ID：200903031446041779
処理チャンバのための遠隔式プラズマクリーニング方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-201117
公開番号（公開出願番号）：特開2001-085418
出願日： 2000年07月03日
公開日（公表日）： 2001年03月30日
要約：
【要約】【課題】 マイクロ波エネルギを利用して、単独で又は不活性ガスと組み合わせで用いられる反応種を遠隔で発生させ処理チャンバから堆積物を取り除く処理チャンバクリーニング方法。【解決手段】 反応種により、第1の圧力で第1の処理領域から堆積物を取り除くことができ、また、第2の圧力で第2の処理領域から堆積物を取り除くことができる。また、2つの異なる圧力で単一の処理領域の中に遠隔で発生された反応種を利用するクリーニングプロセスが説明される。更に、反応性のガスと不活性ガスの比を変えることにより、クリーニングプロセスの均一性を改良し、クリーニング速度を上げ、反応種の再結合を減らし、処理チャンバに提供される反応種の滞在時間を延ばすことができる。
請求項（抜粋）：
処理チャンバの内面上に形成された堆積物を処理チャンバからクリーニングするための方法であって、前記処理チャンバ内面は、第1の領域と第2の領域を有し、前記第2の領域は前記第1の領域とは別であり、前記方法は、(a)反応種を形成するため、不活性ガスとクリーニングガスを備えるガス混合物を前記処理チャンバの外側で解離するステップと、(b)前記処理チャンバに前記反応種を提供するステップと、(c)前記処理チャンバ第1の領域内で前記反応種を前記堆積物と反応させるステップと、(d)前記処理チャンバ第1の領域内に形成された前記堆積物から揮発性の化合物を生成するステップと、(e)前記処理チャンバ第1の領域内に形成された堆積物から形成された前記揮発性の化合物を、前記処理チャンバから取り除くステップと、(f)前記処理チャンバ第1の領域と前記処理チャンバ第2の領域の間の流体連絡を増加させるステップと、(g)前記処理チャンバ第2の領域内で、前記反応種を前記堆積物と反応させるステップと、(h)前記処理チャンバ第2の領域内に形成された前記堆積物から揮発性の化合物を形成するステップと、(i)前記処理チャンバ第2の領域内に形成された堆積物から形成された前記揮発性の化合物を、前記処理チャンバから取り除くステップとを有する方法。
IPC (3件)：
H01L 21/31
, C23C 16/44
, H01L 21/3065
H01L 21/31 C
, C23C 16/44 J
, H01L 21/302 B
