特許
J-GLOBAL ID：200903047845886042
遠隔の励起源を用いる堆積チャンバーのクリーニング技術
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-185924
公開番号（公開出願番号）：特開平9-069504
出願日： 1995年07月21日
公開日（公表日）： 1997年03月11日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】電子デバイス製作に用いられる堆積チャンバーのクリーニング方法を提供する。【解決手段】堆積チャンバーの外部にある遠隔チャンバーに、前駆体ガスを供給する。遠隔チャンバー内で前駆体ガスを活性化させて反応性の化学種を形成する。遠隔チャンバーから堆積チャンバーへ反応性の化学種を流す。遠隔チャンバーから堆積チャンバーへ流れ込んだ反応性の化学種を用いて、堆積チャンバーの内部をクリーニングする。
請求項（抜粋）：
電子デバイス(electronic devices)の作製において用いられる堆積チャンバーをクリーニングする方法であって、該堆積チャンバー外部の遠隔チャンバーに前駆体ガスを供給(delivering)し;遠隔チャンバー内で該前駆体ガスを活性化して反応性化学種(reactive species)を形成し;遠隔チャンバーから堆積チャンバー内に該反応性化学種を流し;そして、遠隔チャンバーから堆積チャンバー内に流れ込んだ前記反応性化学種を用いて、堆積チャンバーの内部をクリーニングするステップを含むことを特徴とする方法。
IPC (4件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
, C23C 16/44
, H01L 21/205
H01L 21/304 341 D
, H01L 21/304 341 Z
, C23C 16/44 D
, H01L 21/205
